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  •   本机器主要适用于STN-LCD、CSTN-LCD等玻璃基片及硬脆材料的高精度、高效率的单面抛光。 

      高刚性主轴结构,可通过联轴器吸收部分振动,抛光时不会发生有害的震动,有利于提高产品的抛光质量。

      上抛光装置采用电机驱动曲柄滑块往复运动机构,实现上盘整体稳定摇摆,摇摆速度0~100mm/s,摇摆幅度最大可达700mm。

      采用气缸直驱控制上抛光盘的升降与翻转,升降快速且平稳;翻转的角度可达75°。

      采用吸附衬垫的吸附方式来固定工件。

      采用PLC和触摸屏控制,在触摸屏里可预设不同压力条件下的工艺参数。

      变频调速驱动装置,实现软启动、软停止,可根据用户的工艺需求调节机器转速,达到理想的研磨速度。

    下盘尺寸:φ1300×200(mm)

    上盘尺寸:φ1000×40(mm)

    上盘升降行程:0~200(mm)

    上盘移动幅度:±350(mm)

    上下盘间偏心度:50~200(mm)

    工件厚度:0.15~1.1(mm)

    下盘转速:0~50(rpm)

    上盘压力范围:50~300(Kg)

    电源/耗电量:3 phase-380V/15KVA

    气源/耗气量:0.45~0.65(Mpa)/100((L/min)

    主机尺寸:2720×2250×2370(mm)

    机器重量:~8000(Kg)

                           玻璃屏

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