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  •   本机器主要适用于硅片、石英晶片、光学晶体、玻璃、宝石、铌酸锂、砷化镓、陶瓷片等薄脆金属或非金属的研磨或抛光。
     

      触控屏人机界面显示报警和机床状态的实时信息,所有制程参数皆可在触控屏进行设定。
      上下抛光盘均设置有冷却装置,可有效调节抛光盘面温度,减小盘面变形。
      箱体机架及承载主要零部件采用整体铸件,设备的承载与减振能力强;
      采用圆柱销齿游轮,降低了耗材维护成本。
      采用独有的机械结构,其抛光精度高,可适应上盘施加大压力(2000kg)的加工工况。

    上(下)盘尺寸:

    φ1216×φ651×80(mm)  

    工件厚度:

    最大:20(mm)    最小:0.3(mm)

    工件直径:

    最大:φ280(mm)

    下盘转速:

    0~60(rpm)

    游星轮数量:

    游星轮参数:

     Z=61          Df =307.14

    上盘压力范围:

    50~1000(Kg)

    电源/耗电量:

    3相-380V/24KVA

    气源/耗气量:

    0.5(Mpa)/50(L/min)  

    主机尺寸:

    2020×2670×2800(mm)

    机器重量:

    ~6000(Kg) 

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